单工位转动自喷清洗机
1.机器设备特性1.1本机器设备依据待洗零件类型多,总数少的特性,选用单工位式清洗、烘干的方法;1.2零件经人工手推式进到清洗室,布局在清洗腔房间内的自喷管对工件作大总流量自喷,遮盖无盲点;1.3清洗选用持续清洗式,清洗侵蚀力强悍。2.清洗目标和规定2.1清洗目标:多种类型声卡机架零件2.2清洗方法:单工位清洗机2.3清洗物质:选用脱油型清洗剂2.4清洗规定:被清洗的加工件和清洗以后的技术标准,清洗后的工件內外表层无油渍、结晶状。3.清洗生产流程3.1清洗机姿势叙述:工件经职工装进清洗机入清洗腔→关掉密封门→两手按住起动按键→自喷管刚开始工作中→工作中旋转工作台360度转动。)→清洗完毕后管路全自动转换到吹气检查系统软件→对工件开展单脉冲状的切污水处理→切水完毕后密封门开启→人工开料可用:该机器设备适用小车、工程机械设备、航天航空等制造行业的各种构造繁琐五金零件、泵油路板清洗。
单工位旋转喷淋清洗机
资金投入段:2-三个承载部位,控制器认知工作服篮有没有,选用气缸升降机移载方法资金投入,运作的:Z向气缸升高→X向气缸右移→Z向气缸降低→X向气缸退还起点→遵循此方法将工作服篮资金投入到洗净承载座上.注:本组织设立程序流程维护作用及SENSOR检知。洗净段:关键组成;承载位一个,洗剂槽两个,自喷槽一个,洗净槽两个,慢提拉紧致槽一个。承载位:一个,工作服篮移进承载部位以后,马上送进后段洗剂槽。洗剂槽:两个,应用洗剂(人工服务加上) 纯水,配超声波波动提升清理实际效果,超声波抗压强度1800W,頻率40/80kHz双频挑选,洗剂槽温度设定在40-五十度。自喷槽:一个,自喷纯水,纯水来源于后段洗净槽,自喷时必须上下往复式挪动以提高自喷实际效果,温度在40-五十度。洗净槽:两个,纯水,配超声波波动提升清理实际效果,超声波抗压强度1800W,頻率40/80kHz双频挑选,洗剂槽温度设定在50-70度。
此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短,对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少,对控制成本及环境保护有利。
随着集成电路制程工艺节点越来越先进,对实际制造的几个环节也提出了新要求,清洗环节的重要性日益凸显。
清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响,实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率,还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗,清洗步骤约占整体步骤的33%。
机器设备特性1、自喷清洗、超音波清洗、水射流清洗紧密结合,合理除去金属材料细颗粒物;2、提升清洗篮转动作用,无死角对商品开展清洗;3、依据不一样商品颗粒度规定,调节加工工艺主要参数,过滤装置;4、机器设备合理解决了汽车零部件、液压电磁阀等零件颗粒度难题;5、机器设备占地小,便捷维修保养。自喷清洗在一个密封性的工作中腔内一次进行有机化学清洗、双蒸水清洗、转动脱水等全过程,降低了在每一步清洗全过程中因为人为因素实际操作要素导致的危害。在自喷清洗中因为转动和自喷的实际效果,促使硅片表面的溶液更为匀称,与此同时,触碰到硅片表面的溶液始终是新鮮的,那样就可以保证根据加工工艺时间设置,操纵硅片的清洗浸蚀实际效果,完成非常好的一致性。密封性的工作中腔能够 阻隔有机化学液的蒸发,降低溶液的耗损及其溶液蒸汽对身体和自然环境的伤害。各系统软件各自贮于不一样的化学药品,在应用时抵达喷口以前才混和,使其维持新鮮,以充分发挥大的发展潜力,那样在清洗的时候会反映快。用N2喷时使液态根据不大的喷口,使其产生细细的的雾气,至硅片表面做到更强的清洗目地。
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